Без современных станков Пекину будет трудно догнать США и Европу в производстве ИИ-чипов
3 сентября 2026, 09:34ПроцессорыJin11
Китай по-прежнему значительно отстает от мировых лидеров в создании оборудования для производства передовых микросхем, о чем сообщает Bloomberg, ссылаясь на высокопоставленного руководителя немецкой компании Zeiss Group, важного поставщика ASML.
Франк Рохмунд, руководитель сектора полупроводников компании Zeiss, отметил в эфире Bloomberg TV, что «вполне вероятно», что Пекину потребуется 15 лет для разработки машин для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV).
Наиболее значительной преградой является EUV-литография — технология, необходимая для серийного производства самых современных чипов для искусственного интеллекта и высокопроизводительных вычислений. Китай уже ведет работы над собственными установками, но в данный момент внимание в основном сосредоточено на более устоявшейся DUV-литографии.
По данным источника, экспериментальные китайские EUV-станки значительно уступают своим западным аналогам и не готовы обеспечить массовое производство чипов с использованием передовых технологий. Тем не менее, Пекин продолжает активно вкладывать средства в развитие своей полупроводниковой отрасли.
Источники:bloombergПроцессоры11ZEISS09:34
Источник