На это выделили почти 1,5 млрд рублей
Процессоры718:31
Российский федеральный ядерный центр ВНИИЭФ, который является частью «Росатома», займется созданием отечественной установки для жидкостного химического травления полупроводниковых пластин. На опытно-конструкторские работы в рамках проекта «Спрей» Минпромторг выделил 1,43 млрд рублей. Завершение разработки оборудования запланировано до 30 ноября 2029 года.
Данная установка предназначена для обработки кремниевых пластин с диаметром до 200 мм и будет использоваться в микроэлектронной промышленности. В автоматическом режиме она сможет выполнять несколько технологических операций одновременно: химическое травление, очистку, промывание и сушку пластин.
Согласно техническому заданию, оборудование должно обрабатывать до 100 пластин за один цикл — это четыре стандартные кассеты. Установка будет работать с различными химическими реагентами и поддерживать автоматическую загрузку и выгрузку пластин через систему SMIF, что минимизирует риск загрязнения.
К оборудованию установлены высокие требования по надежности. Равномерность травления должна составлять не менее 5%, наработка на отказ — не менее 2000 часов, а расчетный срок службы установки — не менее семи лет.
Этот проект является частью программы по импортозамещению оборудования для производства микроэлектроники. В качестве зарубежных аналогов упомянуты установки американских компаний Shellback и Siconnex, а также японской Tokyo Electron. В то же время в документации подчеркивается, что на сегодняшний день российских аналогов таких систем не существует.
Особое внимание уделяется локализации производства. Ключевые компоненты установки — процессная камера, система подачи химических реагентов, ротор, центральный контроллер и программное обеспечение — должны быть разработаны и произведены на территории России. Использование иностранных компонентов разрешается только после согласования с заказчиком.
Для ВНИИЭФ это уже второй крупный государственный контракт на оборудование для микроэлектроники за последнее время. Ранее институт получил заказ на сумму почти 993 млн рублей на разработку комплекса для бондинга и дебондинга полупроводниковых пластин. Таким образом, всего за две недели предприятие привлекло более 2,4 млрд рублей государственных инвестиций в развитие отечественных технологий производства микрочипов.
Основанный в 1946 году в Сарове, РФЯЦ-ВНИИЭФ известен как разработчик первых советских атомной и водородной бомб.
DexterИсточники:CNewsПроцессоры7РоссияНаукаРосатом18:31
Источник