«Можно сказать, что они уже у цели», — заявил глава Nvidia
16 сентября 2026, 15:06ПроцессорыNvidiaDexter2
Генеральный директор Nvidia Дженсен Хуанг считает, что к 2030 году Китай сможет разработать собственное современное литографическое оборудование. Он полагает, что благодаря мощной промышленной базе страна сможет быстро увеличить объемы производства и значительно сократить свою зависимость от иностранных технологий за несколько лет.
«Они добьются этого к 2030 году. Это время уже близко. О Китае следует рассматривать как о стране, способной эффективно организовывать массовое производство. Это всего лишь вопрос времени… два-три года — это миг, сущая мелочь. Можно сказать, что они почти у цели», — отметил Хуанг в интервью подкасту The All-In Podcast.
Литография остается одним из самых сложных аспектов китайской полупроводниковой индустрии. Самые современные установки производит нидерландская компания ASML, однако поставки ее EUV-систем в Китай под запретом. Ограничения также касаются современных DUV-литографов.
Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) является крупнейшим китайским разработчиком такого оборудования. Компания серийно производит установки, предназначенные для техпроцессов 90-нм класса. Китай также активно развивает иммерсионную DUV-литографию: сообщалось о системах, которые потенциально могут работать с техпроцессами около 28 нм.
Даже если будет создана работающая установка, это не означает ее немедленное внедрение на фабриках. Оборудование должно пройти длительный процесс квалификации у производителей микросхем. Если первые такие системы действительно начнут поступать китайским компаниям в 2026 году, их широкое применение в серийном производстве может быть отложено до 2028–2029 годов.
Источники:Toms HardwareПроцессоры226 минут назад
Источник