Нет необходимости в фотошаблонах
Процессоры259 минут назад
Американская компания Multibeam получила свой первый заказ на Тайване. Национальный университет Цинхуа (NTHU) внедрит платформу многолучевой электронно-лучевой литографии MBX, которая будет применяться для исследований и разработки технологий нового поколения в сфере микроэлектроники. Ожидается, что оборудование будет поставлено в 2027 году.
Система будет установлена в Колледже полупроводниковых исследований NTHU. Ее планируется использовать не только в научных проектах, но и в совместных разработках с ведущими тайваньскими производителями чипов.
Ключевое преимущество MBX заключается в отсутствии традиционных фотошаблонов. Вместо этого установка создает рисунок микросхемы непосредственно на кремниевой пластине с помощью нескольких электронных лучей. Это позволяет быстро производить новые прототипы после завершения проектирования, значительно сокращая сроки разработки и снижая ее затраты.
По словам разработчиков, технология сочетает высокую точность и производительность. Она подходит для создания современных корпусов микросхем, фотонных компонентов, квантовых устройств и специализированных ускорителей искусственного интеллекта.
Для самой компании Multibeam этот контракт имеет особое значение. Тайвань считается мировым центром производства высоких полупроводников, поэтому первая установка MBX в этом регионе может стать для компании важным шагом на пути к сотрудничеству с ведущими производителями микросхем и открыть ей доступ на один из самых перспективных рынков в этой области.
DexterИсточники:Interesting EngineeringПроцессоры2Multibeam59 минут назад
Источник