Первый опытный образец может появиться к 2030 году
Процессоры713:47
Российские исследователи завершили этап научно-исследовательских работ по разработке отечественного многолучевого электронного литографа — устройства, которое в будущем сможет применяться для изготовления микросхем с технологическими параметрами до нескольких нанометров. Об этом информируют «Известия».
На текущий момент эксперты завершили исследования и подготовили проект будущей установки. Следующий этап будет включать опытно-конструкторские работы, а первый опытный образец, по мнению разработчиков, может быть представлен примерно через три года.
Основное отличие новой системы от традиционных электронных литографов заключается в принципе функционирования. Если существующие устройства используют один электронный луч, то российская разработка основывается на технологии мультикатода, создающей сразу множество независимых электронных лучей. Это должно значительно ускорить процесс экспонирования кремниевых пластин.
По расчетам разработчиков, стандартному однолучевому электронному литографу требуется от полутора до двух недель для обработки одной пластины. Новый многолучевой комплекс сможет осуществить ту же задачу всего за 5–7 минут, что потенциально увеличит производительность примерно в 3000 раз.
Главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов сообщил, что инженерам удалось создать массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нанометра. По его словам, это соответствует одному из лучших мировых показателей.
Еще одним преимуществом новой технологии разработчики считают более простую конструкцию. Зарубежные многолучевые литографы обычно используют сложную систему деления одного электронного луча с множеством зеркал и оптических элементов. Российская установка формирует множество независимых источников электронов на единой подложке, что, как ожидается, позволит снизить себестоимость оборудования, сократить потребление энергии и упростить требования к инженерной инфраструктуре.
По словам создателей, новый литограф сможет использоваться для производства микросхем с различными технологическими нормами — от 350 нм до нескольких нанометров. При этом они подчеркивают, что предельное разрешение современных электронных литографов во многом зависит не только от самой установки, но и от характеристик используемых фоторезистов.
DexterИсточники:ИзвестияПроцессоры7РоссияНаука13:47
Источник